| 姓 名 | 张泽芳（Zefang Zhang） |
办公地点 | 高等研究院 | |
办公电话 | ||
电子邮箱 | zfzhang@fudan.edu.cn | |
毕业学校 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | |
研究方向 1．半导体衬底的化学机械抛光 2．消费电子产品的化学机械抛光 3．纳米氧化硅的制备及其在无机涂料中的应用 | ||
学习经历 2008/09–2011/06：中国科学院上海微系统与信息技术研究所国家信息功能材料国家重点实验室，微电子学与固体电子学，博士 2005/09–2008/07：上海大学理学院化学系，物理化学，硕士 2001/09–2005/07：山西大同大学化学系，应用化学，学士 工作经历 2019/12–至今：上海工程技术大学化学化工学院，副研究员 2016/10–至今：临汾博利士纳米材料有限公司，董事长 2018/12–2019/11：上海映智研磨材料有限公司，总经理 2015/09–2018/11：复旦大学信息科学与工程学院电光源系，博士后 2014/12–2015/05：常州大学材料科学与工程学院，讲师 2011/07–2014/10：中科院上海微系统与信息技术研究所，助理研究员 主持项目 1.国家自然科学基金青年基金项目（51205387），新型LED蓝宝石衬底抛光液设计及其抛光机理研究（2013/01–2015/12），经费24万 2.上海市科技型中小企业创新基金（1803H1D7400），新型蓝宝石抛光液的设计制备及产业化（2017/01–2018/02），经费20万 3.山西省青年拔尖人才项目（2019/12-2021/12），经费60万 参与项目 1.国家十一五集成电路重大专项（2009ZX02030－001），电子级纳米磨料产业化研究及其在IC抛光液中的应用（2009/01-2010/12），经费3983.24万 2.国家十二五集成电路重大专项（2011ZX02704-002），45-28nm集成电路用纳米磨料和相变材料抛光液的研究与产业化（2011/01-2012/12），经费2094万 3.上海市纳米专项（11nm0500300），面向LED蓝宝石衬底的抛光液与抛光工艺示范线（2011/12-2014/09），经费250万 荣誉奖项 2019 山西省青年拔尖人才 2018 山西省“三晋英才”拔尖骨干人才 2014 中国科学院创新促进会会员 2011 中国科学院院长优秀奖 | ||
代表性论著（论文、著作、专利） 1.张泽芳，张文娟，张善端，李富友. (2019). 氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究（英文）. 摩擦学学报，39(01): 109-117. 2.张泽芳，袁薇，徐明，易韬，张善端，李富友. (2018). 二氧化硅-共聚物杂化荧光纳米材料用于动物活体成像的研究。无机化学学报，34（11）：1943-194. 3.Zhang, Z., Zhang, W., Zhang, S., Yan, W. (2017). Study on chemical mechanical polishing performances of sapphire wafer (0001) using silica-based slurry[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 6(10): 723-727. 4.Yan, W., Z. Zhang （Corresponding author）, et al. (2015). The Effect of pH on Sapphire Chemical Mechanical Polishing. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 4(3): P108-P111. 5.Yan, W., Z. Zhang, et al. (2015). Effect of Abrasive Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire. Chinese Physics Letters, 32(8): 088301-1-4. 6.张泽芳，侯蕾，闫未霞，刘卫丽，宋志棠, 纳米SiO2抛光液的制备及在蓝宝石抛光中的应用. 润滑与密封 2013,(7), 88-91. 7.张泽芳，刘卫丽，宋志棠(2012). 不同碱和分散剂对蓝宝石基片研磨的影响研究. 半导体技术，2012, 37 (4), 267-270. 8.Z. Zhang, W. Yan, L. Zhang, W. Liu and Z. Song Zhang, Z., et al. (2011). Effect of mechanical process parameters on friction behavior and material removal during sapphire chemical mechanical polishing. Microelectronic Engineering 88(9): 3020-3023. 9.Z. Zhang, W. Liu and Z. Song (2011). Influence of pH and Abrasive Concentration on Polishing Rate of Amorphous Ge2Sb2Te5 Film in Chemical Mechanical Polishing. Journal of Vacuum Science & Technology B 29(1): 011020. 10.Z. Zhang, L. Yu, W. Liu and Z. Song (2011). Single-crystalline CeOHCO3 with Rhombic Morphology: Synthesis and Thermal Conversion to CeO2. Chinese Journal of Inorganic Chemistry 27(4): 759-763. 11.Z. Zhang, W. Liu, Z. Song and X. Hu (2010). Two-step chemical mechanical polishing of sapphire substrate. Journal of the Electrochemical Society 157(6): H688-H691. 12.Z. Zhang, W. Liu and Z. Song (2010). Surface modification of ceria nanoparticles and their chemical mechanical polishing behavior on glass substrate. Applied Surface Science 256(12): 3856-3861. 13.Z. Zhang, W. Liu J. Zhu and Z. Song (2010). Synthesis, characterization of ceria-coated silica particles and their chemical mechanical polishing performance on glass substrate. Applied Surface Science 257(5): 1750-1755. 14.Z. Zhang, W. Liu and Z. Song (2010). Effect of abrasive particle concentration on preliminary chemical mechanical polishing of glass substrate. Microelectronic Engineering 87(11): 2168-2172. 15.Z. Zhang, W. Liu and Z. Song (2010). Particle size and surfactant effects on chemical mechanical polishing of glass using silica-based slurry. Applied Optics 49(28): 5480-5485. 16.Z. Zhang, W. Liu and Z. Song (2010). Effect of Ammonium Molybdate Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Glass Substrate. Chinese Journal of Semiconductors 31(11): 116003-4. 17.Z. Zhang and H. Lei (2008). Preparation of alpha-alumina/polymethacrylic acid composite abrasive and its CMP performance on glass substrate. Microelectronic Engineering 85(4): 714-720. | ||
